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当目标处于聚焦天线焦平面上时，可通过选择口径分布来提高目标的后向散射功率。利用一个二维口径和一个任意理想导电柱体所组成的系统来说明整个电磁作用过程。研究了不同口径分布情况下目标的后向散射功率，从而为各种应用场合如何选择发射天线口径分布提供了参考准则。
利用电磁聚焦提高目标后向散射
【摘 要】
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当目标处于聚焦天线焦平面上时，可通过选择口径分布来提高目标的后向散射功率。利用一个二维口径和一个任意理想导电柱体所组成的系统来说明整个电磁作用过程。研究了不同口径
【机 构】
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电子科技大学应用物理所
【出 处】
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电子科技大学学报
【发表日期】
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1996年S2期
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