MMIC用多层磁膜电感研究

• 作 者: 孔岑 李辉 周建军 陈效建 陈辰 耿习娇
• 机 构: 南京电子器件研究所
• 出 处: 固体电子学研究与进展
• 发表日期: 2011年3期
• 关键词: 磁膜电感 多层结构 单片微波集成电路 inductors with ferromagnetic thin film muitilayer structure

采用磁控溅射生长磁膜工艺，结合BCB（苯并环丁烯）平坦化技术，首次制作了“金属线圈／磁膜／金属线圈（M／F／M）”和“磁膜／金属线圈／磁膜／金属线圈（F／M／F／M）”两种结构的多层磁膜电感，整个工艺与标准MMIC工艺兼容。在2GHz处，“金属线圈／磁膜／金属线圈”结构电感的电感量为7．5nH，品质因数为7．17，与相同结构同工艺同批次传统单层无磁膜电感相比分别提高了270％和47％；“磁膜／金属线圈／磁膜／金属线圈”结构电感的电感量为9nH，品质因数为5．86，与传统电感相比分别提高了350％和25％。