纳米制造中污染物的检测与清除

来源 :兰州理工大学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：skyedge228

【摘要】

：

研究纳米器件和超大规模集成电路制造中污染物的来源及其特点.列出简单方便、实用有效的清除污染物的方法和步骤,通过该方法,可以清除基底表面大于300 nm的有机和无机污染物.

【作者】

：

戴剑锋李维学王青 ZHANG Feng SMITH He

【机构】

：

兰州理工大学甘肃省有色金属新材料国家重点实验室,美国麻省理工学院纳米结构与制造实验室

【出处】

：

兰州理工大学学报

【发表日期】

：

2007年3期

【关键词】

：

清除污染物检测 removal contaminant detection

【基金项目】

：

甘肃省科技攻关基金（GS022852-113）,国家留学基金（200321G030）,甘肃省自然科学基金（3ZS062-B25-020）

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研究纳米器件和超大规模集成电路制造中污染物的来源及其特点.列出简单方便、实用有效的清除污染物的方法和步骤,通过该方法,可以清除基底表面大于300 nm的有机和无机污染物.给出简单地检测和评估基底表面污染物含量和大小的方法,并设计一种实验室在线测量空气中悬浮粒子浓度的简单设备,提出制备超纯净水的工艺流程.

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