磁控溅射TiN薄膜低温沉积技术及其摩擦学性能研究

• 作 者: 白秀琴 李健
• 机 构: 武汉理工大学可靠性工程研究所,机械科学研究院武汉材料保护研究所
• 出 处: 润滑与密封
• 发表日期: 2006年05期
• 关键词: 磁控溅射 低温 TiN薄膜 摩擦学性能

利用磁控溅射装置在高速钢基体上制备了TiN薄膜,研究了基体温度升高的原因及其磁控溅射的低温原理,讨论了低温与离子刻蚀、负偏压、磁场强度3个主要溅射工艺参数的关系,并对TiN薄膜的摩擦学性能进行了研究。实验结果表明,离子刻蚀、负偏压、磁场强度对低温磁控溅射TiN成膜过程具有较大的影响,所制备的TiN薄膜的耐磨性、配副适应性也较好。