【摘 要】
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<正> 正电子湮没技术中最常用的放射源是22Na 薄膜源。通常把22Na的溶液滴在Ni箔或Mylar膜上。由于正电子在Mylar膜上的湮没,在寿命谱中往往有一个百分之几的长寿命成份,这对
【机 构】
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计量科学院rrrrrrrrn,复旦大学
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<正> 正电子湮没技术中最常用的放射源是22Na 薄膜源。通常把22Na的溶液滴在Ni箔或Mylar膜上。由于正电子在Mylar膜上的湮没,在寿命谱中往往有一个百分之几的长寿命成份,这对含有长寿命成份的样品的测试分析甚为不利。用1—2μm左右厚度的Ni箔作为22Na的衬底是比较理想的,但由于国内制造Ni膜受净化环境及其它条件的限制,制备的1—2μm的镍箱中存在很多针孔,用它作衬底制备22Na薄膜源就有一定的困难,也不安全。为此,我们摸索了制备22Na薄膜源的一种方法:利用有针孔的1.7μm的Ni箔,涂上一层-0.5μm左右的塑料薄膜作为衬底,比较安全可靠,用有无塑料膜保护的薄膜源对同一样品作了寿命谱的对比测试（见表）。
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