反应磁控溅射离子镀氮化钛薄膜质量与工艺参数的关系

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本文总结了影响反应磁控溅射离子镀氮化钛膜层质量的主要工艺参数。测得了靶极电压与氮气流量、靶极电流与氮气流量、溅射室内压强与氮气流量、氮化钛膜的颜色与氮分压、氮化钛膜的颜色与基板温度、靶极功率与氩气分压的关系以及薄膜层中氮、钛含量沿薄膜表面的分布。上述结果对提高溅射速率和薄膜质量有很大的实际意义。 This article summarizes the main process parameters that affect the quality of TiN coatings by reactive magnetron sputtering. The target voltage and nitrogen flow rate, the target current and nitrogen flow rate, the sputtering chamber pressure and nitrogen flow rate, the color and nitrogen partial pressure of the titanium nitride film, the color and substrate temperature of the titanium nitride film, the target power and argon The relationship between gas partial pressure and the distribution of nitrogen and titanium in the film layer along the film surface. The above results have great practical significance for improving the sputtering rate and film quality.
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