【摘 要】
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目的:研究安氏I类错患者中,分别采用微型种植体作支抗与口内支抗腭向移动上颌第二磨牙进行比较,以评价两种方法各自的特点.方法:将20例成人患者随机分成两组,分别采用两种方
【机 构】
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第二炮兵总医院口腔科,北京,100088
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目的:研究安氏I类错患者中,分别采用微型种植体作支抗与口内支抗腭向移动上颌第二磨牙进行比较,以评价两种方法各自的特点.方法:将20例成人患者随机分成两组,分别采用两种方法腭向移动上颌磨牙.测量上颌第二磨牙在移动速度和颊舌向,垂直方向的位置变化,以衡量磨牙的位置改变.结果:种植体作支抗组上颌第二磨牙平均腭向移动3.8mm,疗程4.4个月,平均移动速度0.86mm/月,磨牙垂直向压低0.45mm.对照组上颌第二磨牙平均腭向移动4.0mm,疗程6.2个月,平均移动速度0.65mm/月,磨牙垂直向伸长1.86mm.结论:两种方法比较,种植体的支抗更强,磨牙移动速度更快.二者磨牙的移动方式有所区别.
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