【摘 要】
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北京仪器厂与清华大学合作研制的新型镀膜设备——JCK-500型磁控溅射台,最近进行了国家鉴定。磁控溅射综合了热蒸发镀膜和两极溅射的优点,克服了二者的缺点。膜层结合强度高
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北京仪器厂与清华大学合作研制的新型镀膜设备——JCK-500型磁控溅射台,最近进行了国家鉴定。磁控溅射综合了热蒸发镀膜和两极溅射的优点,克服了二者的缺点。膜层结合强度高,致密而无针孔,工况稳定,重复性好,膜厚均匀,基本不受二次电子轰击,基片温升低,溅射速率可比一般溅
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