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多晶硅硅片在酸的腐蚀下,获得了各向同性的绒面。根据扫描电镱(SEM)分析的腐蚀后的多晶砖片的表面结构,建立近似模型,模拟计算了表面反射率与绒面深度的关系。
多晶硅绒面化处理的表面反射率的模拟计算
【摘 要】
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多晶硅硅片在酸的腐蚀下,获得了各向同性的绒面。根据扫描电镱(SEM)分析的腐蚀后的多晶砖片的表面结构,建立近似模型,模拟计算了表面反射率与绒面深度的关系。
【机 构】
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南昌大学理学院化学系
【出 处】
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化学工程与装备
【发表日期】
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2008年8期
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