【摘 要】
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为测定非常薄的表面镀层(几百埃)和复杂的镀层(2～3层),发展了萤光X射线测定薄膜的新方法。 (1)为适应极薄镀层的测定,对演算公式进行了简化。由于镀层非常薄,可认为萤光X射线
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为测定非常薄的表面镀层(几百埃)和复杂的镀层(2～3层),发展了萤光X射线测定薄膜的新方法。 (1)为适应极薄镀层的测定,对演算公式进行了简化。由于镀层非常薄,可认为萤光X射线的强度和薄膜厚度成线性关系。另一方面因镀层很薄,产生的萤光X射线强度很弱,影响测量精度,为了提高萤光X射线强度,应选择适合于
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