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XeCl激光与铜蒸气激光诱导硅中掺硼的比较
XeCl激光与铜蒸气激光诱导硅中掺硼的比较
来源 :光学仪器 | 被引量 : 0次 | 上传用户:peterqiu123
【摘 要】
:
讨论了XeCl激光和铜蒸气激光(CVL)诱导硅中掺硼的实验比较结果。CVL诱导掺硼是首次由本课题完成的。激光掺杂之P-N结结深可小于0.2μm,表面硼浓度大于1021cm-3。CVL激光掺杂制成的
【作 者】
:
钱育军
潘佰良
【机 构】
:
浙江大学物理系,310027
【出 处】
:
光学仪器
【发表日期】
:
1995年4期
【关键词】
:
铜蒸气激光
诱导掺杂
氯化氙激光
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讨论了XeCl激光和铜蒸气激光(CVL)诱导硅中掺硼的实验比较结果。CVL诱导掺硼是首次由本课题完成的。激光掺杂之P-N结结深可小于0.2μm,表面硼浓度大于1021cm-3。CVL激光掺杂制成的太阳能电池最高光电效率比XeCl激光高8%,表明CVL激光在激光诱导掺杂中具有明显优势。
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