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衬底偏置对ITO膜光学性质的影响
衬底偏置对ITO膜光学性质的影响
来源 :应用光学 | 被引量 : 0次 | 上传用户:wpe2727
【摘 要】
:
研究衬底偏置机理。在低温偏压衬底下,用三极反应溅射法镀制出在可见光区透射率为83%的ITO膜。测试低温负偏置衬底法与高温无偏置衬底法镀制ITO膜的光谱特性,发现两者在红外区
【作 者】
:
张怀武
许武毅
【机 构】
:
电子科技大学,陕西机械学院
【出 处】
:
应用光学
【发表日期】
:
1992年4期
【关键词】
:
衬底
偏置
薄膜
ITO膜
光学性质
substratebiasingthin film
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研究衬底偏置机理。在低温偏压衬底下,用三极反应溅射法镀制出在可见光区透射率为83%的ITO膜。测试低温负偏置衬底法与高温无偏置衬底法镀制ITO膜的光谱特性,发现两者在红外区有相似变化。确定出氧分压范围在(5~7)×10~(-3)Pa。
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