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介绍了吸杂的分类与效果以及内吸杂工艺,并综述了金属在硅中的性质,主要阐明了氧在内吸杂中的作用,简述了氮对吸杂的影响,并讨论了内吸杂的物理机理.最后探讨了今后吸杂的发展方向.
超大规模集成电路硅片的内吸杂
【摘 要】
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介绍了吸杂的分类与效果以及内吸杂工艺,并综述了金属在硅中的性质,主要阐明了氧在内吸杂中的作用,简述了氮对吸杂的影响,并讨论了内吸杂的物理机理.最后探讨了今后吸杂的发
【机 构】
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浙江大学硅材料科学国家重点实验室
【出 处】
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材料导报
【发表日期】
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2003年5期
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