【摘 要】
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钨/铜界面是聚变堆偏滤器的重要连接界面,在高热流密度和强中子辐照下会成为氢同位素渗透滞留的高速通道和捕获陷阱。本文利用第一性原理方法研究了钨/铜界面处氢原子与点缺
【机 构】
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西安交通大学核科学与技术学院,西安交通大学陕西省先进核能工程研究中心陕西省先进核能技术重点实验室,中国原子能科学研究院,大连海事大学理学院
【基金项目】
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国家磁约束核聚变能发展研究专项资助项目(2018YFE0308105),国家自然科学基金资助项目(11705137),中国核工业集团有限公司领创科研项目资助,中央高校基本科研业务费专项资金资助
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钨/铜界面是聚变堆偏滤器的重要连接界面,在高热流密度和强中子辐照下会成为氢同位素渗透滞留的高速通道和捕获陷阱。本文利用第一性原理方法研究了钨/铜界面处氢原子与点缺陷的相互作用,考察了氢原子的滞留行为和空位在界面处的形成行为,分析了氢原子的优先占据位置及氢原子与空位的作用机理。结果表明:在钨/铜界面中,氢原子稳定存在于钨/铜界面中间及铜晶格中;对于空位,界面附近的铜空位不稳定,会自发移动到钨/铜界面的顶端表面,而钨空位相对稳定存在;相比于铜空位,钨空位吸引氢原子的能力更强。氢原子的存在会抑制铜空位的迁移现象
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