【摘 要】
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分别以ZrOCl2*8H2O和正硅酸乙酯为原料,采用溶胶-凝胶工艺制备了性能稳定的ZrO2和SiO2溶胶.用旋转镀膜法分别在K9 玻璃和单晶硅片上制备了ZrO2/SiO2多层膜.采用溶剂替换和紫
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分别以ZrOCl2*8H2O和正硅酸乙酯为原料,采用溶胶-凝胶工艺制备了性能稳定的ZrO2和SiO2溶胶.用旋转镀膜法分别在K9 玻璃和单晶硅片上制备了ZrO2/SiO2多层膜.采用溶剂替换和紫外光处理等手段,有效地解决了ZrO2/SiO2多层膜中膜层开裂和膜间渗透等问题.应用扫描电子显微镜观测了薄膜的表面和剖面微观形貌,并用椭偏仪测得薄膜的厚度和折射率,研究了薄膜厚度、折射率与热处理温度、紫外光处理时间的关系,对所获得薄膜的紫外-可见、红外光谱进行了分析.用输出波长1064nm,脉宽15ns的电光调Q激
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