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用汉克脱石与丙胺基三乙氧基硅烷反应,制得硅交联汉克脱石。产物经700℃焙烧,其底面间距为17.7。柱状汉克脱石的热稳定性高于层状汉克脱石。改变层间阳离子不影响层间距。NH<sub>3</sub>-TPO和吡啶吸附实验表明样品存在L酸和B酸中心,且酸强度较弱。柱状样品的裂解活性高于层状样品。镁和镧可减小活性衰减速率。