半导体掺杂分布精细结构的测量技术研究

来源 :西安交通大学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:wuming66666666
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论述了一种采用数控精细扫描电压源的电容-电压(C-V)测量系统,利用该系统可以测量硅及砷化镓样品表面层的掺杂分布的精细结构,为半导体器件和集成电路芯片的设计与制造工艺的优化提供可靠的依据,测试系统采用PC微机作为主控机,配以接口模块,数据采集模块,控制模块及电容仪等,可使测量快速,准确地进行,并可使复杂的操作与计算过程完全自动化。
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