气相沉积技术制备TiN类硬质膜

• 作 者: 田永生 陈传忠 王德云 雷延权
• 机 构: 山东大学材料科学与工程学院,哈尔滨工业大学材料科学与工程学院
• 出 处: 材料科学与工艺
• 发表日期: 2007年3期
• 关键词: 硬质膜 陶瓷 制备工艺 进展 气相沉积 hard thin films ceramics filming technology prospects va
• 基金项目: 山东省优秀中青年科学家科研奖励基金（02BS056）.

硬质膜由于具有良好的耐磨、耐蚀和耐热等特点,所以在航天、化工和机械等领域获得了日益广泛的应用,而硬质膜的组成和制备工艺也随之得到不断发展.本文综述了TiN类硬质膜的应用和制备硬质膜常用的气相沉积方法、工艺参数及其优缺点.阐明了制备工艺正向着以三束（电子束、离子束和激光束）为基础多种工艺复合的方向发展.而硬质膜正向着多元膜、梯度膜和纳米复合膜方向发展.