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日前,诺基亚“角度至上——城市、艺术家、时尚创意展”的四城市艺术作品草图正式对外发布。由四位新锐艺术家——画家高塥产品设计师石川、时装设计师邱吴及Unmask艺术小组创作的草图灵感来源于诺基亚7500手机设计语言“钻石切割工艺设计”.并融合成都、广州、上海和北京四城市大众提交的角度时尚元素。