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采用直流磁控溅射法制备了Al掺杂ZnO薄膜，并在不同的氛围和温度下进行了退火处理．利用X射线衍射仪（XRD）和物理性能测量仪（PPMS）对薄膜的结构和磁性进行了表征．采用了一种改进的磁性修正方法对磁测量结果进行了修正．结果表明，不同的退火温度和氛围对薄膜的微结构和磁特性有着较大的影响，与真空退火处理的薄膜相比，空气退火处理的薄膜样品呈现了明显的铁磁性，磁矩约增加了一个数量级．室温铁磁性可能与Al和ZnO基体之间发生的电荷转移以及在不同退火氛围下Al在ZnO晶格中的地位变化有关．