【摘 要】
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在真空中淀积金属膜和介电质膜是真空技术的重要应用之一。这种真空淀积技术叫做“PVD”方法(物理汽相淀积法)。PVD方法中,最初采用的是热蒸发,其后是采用各种离子镀复,目前
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在真空中淀积金属膜和介电质膜是真空技术的重要应用之一。这种真空淀积技术叫做“PVD”方法(物理汽相淀积法)。PVD方法中,最初采用的是热蒸发,其后是采用各种离子镀复,目前正在积极探讨高速溅射方法。 PVD方法的应用领域很广(表1)。现对它的主要应用简述如下:
The deposition of metal films and dielectric films in vacuum is one of the important applications of vacuum technology. This vacuum deposition technique is called “PVD” method (physical vapor deposition method). PVD method, the initial use of thermal evaporation, followed by a variety of ion plating complex, is currently actively exploring the high-speed sputtering method. The application of PVD method is very broad (Table 1). Now its main application is summarized as follows:
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