【摘 要】
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本文介绍了采用激光化学汽相淀积（LCVD）技术淀积氮化硅薄膜微透镜的系统与工艺的设计。实践表明，按要求建立了LCVD的实验装置后，只要适当控制源气体的化学配比与浓度，调节激光功率
【机 构】
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本文介绍了采用激光化学汽相淀积（LCVD）技术淀积氮化硅薄膜微透镜的系统与工艺的设计。实践表明，按要求建立了LCVD的实验装置后，只要适当控制源气体的化学配比与浓度，调节激光功率与衬底上的光斑尺寸，选择淀积时间，就可以淀积出不同直径、透明、表面光滑的氯化硅薄膜微透镜。
This article describes the design of systems and processes for the deposition of silicon nitride thin film microlenses using laser chemical vapor deposition (LCVD). Practice shows that, after the establishment of the LCVD experimental device as required, as long as the appropriate control of the source gas chemical ratio and concentration, adjust the laser power and the spot size on the substrate, select the deposition time, you can deposit different diameter, transparent , Smooth surface of silicon chloride film micro-lens.
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