【摘 要】
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采用自行设计、自行改制的直流平面磁控溅射装置,使用锌靶,在氧或氬、氧气氛中进行反应溅射,在非压电基片上获得了具有C轴取向的ZnO薄膜。该薄膜在体声、表声器件中有着广泛
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采用自行设计、自行改制的直流平面磁控溅射装置,使用锌靶,在氧或氬、氧气氛中进行反应溅射,在非压电基片上获得了具有C轴取向的ZnO薄膜。该薄膜在体声、表声器件中有着广泛应用的前景,
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