高反射率Mo／B4C多层膜设计及制备

• 作 者: 张慧晶 张众 朱京涛 白亮 陈锐 黄秋实 刘丽琴 谭默言 王
• 机 构: 同济大学精密光学工程技术研究所物理系
• 出 处: 强激光与粒子束
• 发表日期: 2008年1期
• 关键词: 软X射线 Mo/B4C多层膜 遗传算法 直流磁控溅射 应力 反射率 Soft X-ray Mo/B4C multilayer General algorit
• 基金项目: 国家高技术发展计划项目,国家自然科学基金资助课题（10435050,10675091）

运用遗传算法优化设计了Mo／B4C多层膜结构。入射光入射角度取10°时，设计的理想多层膜膜对数为150，周期为3．59nm，Gamma值（Mo膜厚与周期的比值）为0．41，峰值反射率为33．29％。采用恒功率模式直流磁控溅射方法制作Mo／B4C多层膜。通过在Mo／B4C多层膜与基底之间增加15nm厚的Cr粘附层，提高多层膜与基底的粘附力。另外，还采用调整多层膜Gamma值的方法减小其内应力，调整后多层膜结构周期为3．59nm，Mo膜厚1．97nm，B4C膜厚1．62nm，峰值反射率26．34％。