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本文报道在机械驱动下力，通过机械合金化途径使氮或氨直接在室温下的逐步细化的，新鲜的，高反应活性的硅界面上充分扩散，形成亚稳态系统，在８００℃真空炉处理后得到纳米α－Ｓｉ３Ｎ４粉末。发现气氛对合成Ｓｉ３Ｎ４纳米粉末有很大影响。在氮气中，高能球磨前硅粉表面形成的氧化膜在高能球磨过程中与氮反应生成Ｓｉ２Ｎ２Ｏ保护层，阻止氮的进一步扩散，使反应产物含有大量未反应的游离硅。在氨气中可以避免生成了Ｓｉ２Ｎ２ｏ