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KLA—Tencor公司近日推出了PROLITH^TM 12，这是一款业界领先的新版计算光刻工具。此新版工具让领先的芯片制造商及研发机构的研究人员能够以具有成本效益的方式探索与极紫外线（EUV）光刻有关的各种光罩设计、光刻材料及工艺的可行性。PROLITH 12是KLA—Tencor先进光刻解决方案组合中的拳头产品，已被美国和亚洲的研发机构及先进的内存制造商采用，帮助研发工程师判断EUV光刻的可行性，并确定EUV能够获得成功的条件。