二噁(口英)引起皮肤损害的分子机制研究进展

• 作 者: 张春梅 汤乃军
• 机 构: 天津医科大学公共卫生学院劳动卫生学教研室,天津,300070
• 出 处: 毒理学杂志
• 发表日期: 2008年4期
• 关键词: 二噁(口英) 氯痤疮 分子机制

二噁(口英)是有机氯化合物生产合成、废弃物燃烧处理等过程中产生的一类非目的性化学物质的总称,其中2,3,7,8-四氯二苯并二噁(口英)(2,3,7,8-tetrachlorodibenzo-p-dioxin,TCDD)是毒性最强的一种[1].氯痤疮是暴露于二噁(口英)类化学性物质引起的皮肤特异性损害,典型表现为眼外角下方的颧、颊部有数个乃至几十个黑头密集成簇.人类自氯痤疮命名以来就开始了对其毒性机制的探索,但具体机制尚不十分清楚,现对近年来二噁(口英)引起皮肤损害分子机制的一些新观点和发现进行综述.