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来源 :微纳电子技术 | 被引量 : [!--cite_num--]次 | 上传用户:[!--user--]
【摘 要】
:
随着MEMS和MOEMS技术的发展和器件制作对低成本、灵活、高效的需求,数字灰度无掩模光刻技术已成为人们研究的热点。介绍了一种基于数字微镜器件(DMD)的无掩模数字灰度投影光刻技
【作 者】
:
赵立新
严伟
王建
胡松
唐小萍
王肇志
王淑蓉
张正荣
张
【机 构】
:
中国科学院光电技术研究所
【出 处】
:
微纳电子技术
【发表日期】
:
2009年3期
【关键词】
:
数字灰度光刻
无掩模光刻
投影物镜
数字微镜器件
拼接
digital gray-tone lithography maskless lithography p
【基金项目】
:
国家863计划资助项目(2006AA02Z4D2)
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