【摘 要】
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探索了液态淬火一次成型制造Au-3.1(wt)％Si合金薄带的方法.用此法可制造满足半导体器件焊接要求的Au-3.1(wt)％Si合金薄带,但这种薄带室温下极不稳定,在转变成亚稳相结构时带来
【机 构】
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中南工业大学材料系,中南工业大学材料系,
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探索了液态淬火一次成型制造Au-3.1(wt)％Si合金薄带的方法.用此法可制造满足半导体器件焊接要求的Au-3.1(wt)％Si合金薄带,但这种薄带室温下极不稳定,在转变成亚稳相结构时带来脆性。采用适当的退火可使液态淬火薄带的组织转变成平衡相并消除脆性.本文对合理的退火工艺也进行了实验选择.
The method of liquid quenching one-shot forming of Au-3.1 (wt)% Si alloy ribbon was explored. This method can be used to fabricate Au-3.1 wt% Si alloy ribbon that meets the soldering requirements of semiconductor devices. However, Extremely unstable, causing brittleness when transformed into a metastable phase structure. With proper annealing, the microstructure of the liquid quenched ribbon can be transformed into the equilibrium phase and the brittleness can be eliminated.In this paper, the reasonable annealing process is also selected experimentally.
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