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系统地介绍了用ＡＺ系列正性光致抗蚀剂代替电子抗蚀剂的电子束制版工艺技术的研究成果。论述了选用ＡＺ１３５０抗蚀剂的背景和现实意义，给出了胶层膜厚的选择方法和条件，曝光剂量与曝光图形线宽ＣＤ值的相互关系曲线以及稳定可靠的显影和腐蚀工艺条件；论述了采用ＡＺ５２０６抗蚀剂提高曝光灵敏度和分辨率的新研究成果，实验结果证明ＡＺ５２０６的灵敏度为６×１０＾－６－８×１０＾－６库仑／ｃｍ＾２，分辨率可达微米级...