脉冲激光沉积制备NiO（111）外延薄膜及其结构研究

• 作 者: 贝力 朱俊 赵丹 郑润华 李言荣
• 机 构: 电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室
• 出 处: 电子元件与材料
• 发表日期: 2009年7期
• 关键词: NiO薄膜 激光脉冲沉积法 外延匹配 蓝宝石衬底 NiO thin film pulsed laser deposition epitaxial matchin
• 基金项目: “973”计划资助项目（No.61363）

采用脉冲激光沉积法（PLD）在具有六方纤锌矿结构的蓝宝石衬底上制备了NiO外延薄膜，研究了沉积温度、氧分压对薄膜结构和形貌的影响。在650℃、20Pa氧分压的条件下制得了高结晶质量的单晶NiO薄膜。高能电子衍射分析发现，该NiO薄膜沿Al2O3[11-20]方向入射的衍射图像为清晰的斑点，说明NiO薄膜的生长模式为岛状模式，薄膜与衬底的外延匹配关系为：（111）[11-2]NiO／／（0001）[11-20]Al2O3。