VHF-PECVD制备微晶硅薄膜的微结构研究

• 作 者: 张丽伟 余泽通 杨根 卢景霄
• 机 构: 新乡学院,郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室,河南科技学院机电学院
• 出 处: 人工晶体学报
• 发表日期: 2009年1期
• 关键词: 微晶硅薄膜 微观结构 微观形貌 microcrystalline silicon thin film microstructure micromorpholog
• 基金项目: 河南省教育厅自然科学基金项目(No.2008C140001)

用甚高频等离子体化学气相沉积(VHF-PECVD)法在玻璃衬底上低温制备了不同沉积时间微晶硅薄膜。用拉曼散射光谱仪、X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)等表征手段对薄膜的微观结构进行了研究。研究结果表明:随着沉积时间的延长,薄膜呈岛状生长,薄膜晶粒度在微晶核形成后迅速升高并逐渐饱和;其微观结构经历了'非晶相→非晶/微晶混合相→微晶相'的演变过程。本实验制备的微薄膜仍以(111)为优化取向。