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介绍了Be靶制备的电阻加热法、滚轧法、静电振动法、离心沉淀法、聚集束溅射法等。结果显示：电阻加热和滚轧制备自支撑Be靶的厚度范围分别为20－970μg/cm^2和3．8－20μm。
Be靶制备技术研究
【摘 要】
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介绍了Be靶制备的电阻加热法、滚轧法、静电振动法、离心沉淀法、聚集束溅射法等。结果显示：电阻加热和滚轧制备自支撑Be靶的厚度范围分别为20－970μg/cm^2和3．8－20μm。
【机 构】
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中国原子能科学研究院核物理研究所
【出 处】
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原子能科学技术
【发表日期】
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2002年4期
【基金项目】
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国家“8 63”高技术项目资助课题 (41 6 3 3 8)
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