论文部分内容阅读
采用正交试验法探讨了在冷轧钢表面制备复合纳米硅烷膜的最佳工艺条件,通过塔菲尔曲线研究了硅烷膜在3.50%NaCl溶液中的自腐蚀电流密度与自腐蚀电位。实验表明,形成复合纳米硅烷膜的最佳工艺条件为:水解温度为40℃、水解时间为8h、水解溶液的pH为10、水解溶液各组分的体积比为V(y-APS硅烷):V(乙醇):V(水)=7:22:75、浸涂时间20min、固化温度90℃、固化时间20min。纳米材料最佳用量为0.3g·L^-1。通过阳极极化曲线研究了存在与不存在纳米材料的硅烷膜的耐蚀性能,用扫描电子