【摘 要】
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常压等离子体增强化学气相沉积（AP-PECVD）薄膜的均匀性是AP-PECVD技术成功应用的关键问题之一。为此,通过基片的微位移实现了TiO2纳米颗粒薄膜的连续沉积,同时研究了基片的不同
【机 构】
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东华大学理学院,东华大学材料科学与工程学院
【基金项目】
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国家自然科学基金资助项目（10775031,10835004）
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常压等离子体增强化学气相沉积（AP-PECVD）薄膜的均匀性是AP-PECVD技术成功应用的关键问题之一。为此,通过基片的微位移实现了TiO2纳米颗粒薄膜的连续沉积,同时研究了基片的不同移动方式对沉积薄膜的均匀性、表面形貌、结晶结构的影响。研究结果表明：相比单向移动沉积的薄膜,来回移动沉积的薄膜均匀性会得到提高,沉积速率降低;单向移动沉积的薄膜为锐钛矿晶型,而来回移动沉积的薄膜为锐钛矿和金红石混晶结构,且随功率密度的提高,混晶结构中金红石含量提高。由紫外可见吸收光谱分析可知,相比锐钛矿单晶结构,混晶结构的
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