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报道了用氟利昂CHF3和氩气Ar作工作气体的反应离子刻蚀融英石的技术。研究了气体流速、腔压和射频等离子体功率对刻蚀速度的影响,并分析了刻蚀工艺对样品表面的污染,同时也考察了刻蚀工艺的均匀性和重复性。为了优化刻蚀工艺,采用Ral/Discover软件工具设计优化实验。实验中射频等离子体功率范围在120 ̄160,氩气和氟利昂流速分别在15 ̄35sccm(1cm^3/min standard cubic