预处理对铝箔在HCl-H_2SO_4溶液中电蚀行为的影响（英文）

• 作 者: 班朝磊 何业东 邵鑫 杜鹃
• 机 构: 聊城大学材料科学与工程学院,北京科技大学北京市腐蚀、磨蚀与表面技术重点实验室
• 出 处: Transactions of Nonferrous Metals Society of China
• 发表日期: 2013年4期
• 关键词: 铝箔 极化 点蚀 电解腐蚀 铝电解电容器 A1 foil polarization pitting corrosion electrochemical e
• 基金项目: Project supported by University New Materials Disciplines Constructions Program of Beijing Region, China, Project （51172102/E020801） supported by the National Natural Science Foundation of China

将高压铝电解电容器用铝箔在40℃的0.5 mol/L H_3PO_4或40℃的0.125 mol/L NaOH溶液中进行浸泡预处理,再在80℃的1 mol/L HCl＋2.5 mol/L H_2SO_4电解液中进行直流电解腐蚀。采用动电位极化法研究预处理对铝箔点蚀电位和腐蚀电位的影响;用恒电位极化法和扫描电镜（SEM）研究了预处理对铝箔表面亚稳孔萌生速率的影响;用SEM和交流阻抗（EIS）研究了预处理对腐蚀箔表面、横截面形貌及电化学行为的影响;用A/D模块采集了电解腐蚀初期槽电压—时间瞬时曲线。结果表明：