【摘 要】
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济南半导体研究所二车间的同志们,对过去传统用的P型杂质源,硼酸三甲脂进行了认真的总结,认为硼酸三甲脂作扩散源,在浓度要求不高,批量不大,片子面积不大的情况下是能满足要
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济南半导体研究所二车间的同志们,对过去传统用的P型杂质源,硼酸三甲脂进行了认真的总结,认为硼酸三甲脂作扩散源,在浓度要求不高,批量不大,片子面积不大的情况下是能满足要求的。但用作集成电路的隔离层扩散,就显得不够了,主要问题是: 1.扩散后,杂质浓度的均匀性和重复性较差。
Jinan Institute of semiconductors, two workshop comrades, the traditional P-type impurity source, boric acid trimethyl fat were carefully summarized, that the three trimethyl borate as a diffusion source, the concentration is less demanding, the bulk is not, the film area is not Large cases can meet the requirements. However, the use of integrated circuit for the diffusion barrier is not enough, the main problems are: 1. After the diffusion, the impurity concentration uniformity and repeatability is poor.
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