【摘 要】
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<正> 为适应半导体集成电路和电子仪器、光电子仪器和磁性纳米级仪器的商品化,开发低成本、高生产率的具有低于50nm线宽清晰度的平版印刷术是十分必要的。目前正在开发的扫描
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<正> 为适应半导体集成电路和电子仪器、光电子仪器和磁性纳米级仪器的商品化,开发低成本、高生产率的具有低于50nm线宽清晰度的平版印刷术是十分必要的。目前正在开发的扫描电子束平版印刷术,已用实例证明能达到10nm清晰度,它是以点挨点的形式构成图形,其缺陷是生产率太低,还不适于低于50nm结构的批量生产;而另一项技术,X射线平版印刷术,可以实现20nm清晰度,生产率也高,但它的掩模技术和曝光系统颇为复杂和价格昂贵。此外,以扫描近侧探针为基础的平版印刷术已实现了10nm清
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