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反应溅射TiW_yN_x薄膜扩散势垒特性研究

来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：laowang2000

【作 者】

：

张国炳 武国英 徐立 郝一龙 隋小平

【出 处】

：

半导体学报

【发表日期】

：

1993年11期

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