化学气相沉积金刚石薄膜的表面过程

• 作 者: 唐壁玉 靳九成 夏金童 陈少华 陈宗璋
• 机 构: 湖南大学化学化工系
• 出 处: 湖南大学学报(自然科学版)
• 发表日期: 1996年04期
• 关键词: 金刚石薄膜 化学气相沉积 薄膜生长 表面过程 沉积速率 薄膜沉积 氢原子 表面反应 速率常数 动力学机制

采用简单表面反应模式，对化学气相沉积金刚石薄膜的表面动力学过程进行了研究．得到了金刚石薄膜的沉积速率公式，揭示了影响薄膜生长的因素，并由此讨论了金刚石薄膜生长的机制和规律．

A simple surface reaction model was used to study the surface dynamics of CVD diamond films. The formula of deposition rate of diamond film was obtained, the factors affecting the growth of diamond film were revealed, and the mechanism and rule of diamond film growth were discussed.