富士胶片推出激光直接雕刻柔印CTP系统

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【摘要】

：

富士胶片新的B2幅面激光直接雕刻柔性版CTP系统将在Labelex-po Americas 2010展览会上正式亮相,采用这种技术,可以简化目前已存在的激光烧蚀掩膜技术繁琐的柔 Fujifilm’s n

【作者】

：

晓宇

【出处】

：

广东印刷

【发表日期】

：

2010年05期

【关键词】

：

CTP系统激光烧蚀富士胶片雕刻柔印掩膜技术 uv曝光制版工艺

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富士胶片新的B2幅面激光直接雕刻柔性版CTP系统将在Labelex-po Americas 2010展览会上正式亮相,采用这种技术,可以简化目前已存在的激光烧蚀掩膜技术繁琐的柔 Fujifilm’s new B2-format laser direct engraving flexo CTP system will be unveiled at the Labelex-po Americas 2010 show, using this technology to streamline the existing laser ablation mask technology cumbersome soft

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