通过温度压力控制LEC-GaAs单晶化学配比的实验研究

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通过温度压力改变,使整个LECGaAs单晶生长过程As损失最小。获得了化学配比较好的SIGaAs单晶。单晶表面离解少,特别是单晶尾部结构缺陷也少。分析了LECSIGaAs单晶生长过程中As的挥发和生长环境压力对生长的单晶位错密度的影响。 Through the change of temperature and pressure, the loss of As in the entire LECGaAs single crystal growth process is minimized. Obtained a good chemical ratio of SI GaAs single crystal. Single crystal surface dissociation less, especially single-crystal tail structure defects are also less. The effects of As volatilization and growth environment pressure on the growth dislocation density of single crystals during LECSIGaAs single crystal growth were analyzed.
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