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应用 SEM 及磁性测量等手段,对化学镀钴基垂直磁记录介质进行了研究。随着厚度的增加,膜的结构取向更加完善,各向异性等效场(H_k)、饱和磁化强度(M_s)提高,但矫顽力(H_c)在一定范围内增加缓慢,且当膜较薄时 H_c 及矩形比(S.R.)具有较高数值。这一特点有利于该介质走向实用化。
化学镀垂直磁记录薄膜厚度对磁性能的影响
【摘 要】
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应用 SEM 及磁性测量等手段,对化学镀钴基垂直磁记录介质进行了研究。随着厚度的增加,膜的结构取向更加完善,各向异性等效场(H_k)、饱和磁化强度(M_s)提高,但矫顽力(H_c)在一
【机 构】
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清华大学现代应用物理系,清华大学现代应用物理系
【出 处】
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信息记录材料
【发表日期】
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1990年3期
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