【摘 要】
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一、引言在固体电路工艺中,要生长缺陷少的外延材料,除对外延工艺探求其规律,严格控制之外,提供一个理想的衬底则是一个必要的和基本的条件。理想衬底的条件,除了是理想的单
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一、引言在固体电路工艺中,要生长缺陷少的外延材料,除对外延工艺探求其规律,严格控制之外,提供一个理想的衬底则是一个必要的和基本的条件。理想衬底的条件,除了是理想的单晶外,适当的晶向,低程度的机械损伤,少的含氧量则是绝对必要的。适宜的晶向可由切片时的严格控制达到;而机械损伤程度可通过抛光的严格控制和抛光方法的
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