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介绍了一种具有高附着力和优良绝缘性能的Ta2O5介质膜，它由离子束溅射镀膜工艺制备而成。检测了在不同氧气流量下制备的氧化钽薄膜的绝缘性。结果表明：在其余条件相同的情况下，氧气流量越大所制备的薄膜绝缘程度越高。但当氧气流量达到一定的程度时，其绝缘程度不再有所变化。
离子束溅射制备的氧化钽层的绝缘特性
【摘 要】
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介绍了一种具有高附着力和优良绝缘性能的Ta2O5介质膜，它由离子束溅射镀膜工艺制备而成。检测了在不同氧气流量下制备的氧化钽薄膜的绝缘性。结果表明：在其余条件相同的情况下，
【机 构】
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中国电子科技集团公司第四十八研究所
【出 处】
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微细加工技术
【发表日期】
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2002年4期
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