基于离线激光诱导击穿光谱方法的HL-2A石墨瓦沉积层初步分析

• 作 者: 王振忠 才来中 刘平 刘佳敏 Imran Muhammad 丁洪斌
• 机 构: 核工业西南物理研究院,成都,610041大连理工大学物理与光电工程学院,三束材料改性教育部重点实验室,大连116024
• 出 处: 核聚变与等离子体物理
• 发表日期: 2018年2期
• 关键词: 激光诱导击穿光谱 石墨 HL-2A偏滤器 等离子体与材料相互作用

对HL-2A偏滤器靶板和固定孔栏位置的石墨瓦进行了离线激光诱导击穿光谱(LIBS)测量,比较分析了沉积行为,初步得到了不同位置沉积层粒子种类(Fe、Si、H、D等元素)及其深度的变化.与飞行时间二次离子质谱仪(TOF-SIMS)所得结果进行了对比,发现离子深度变化形貌趋同.根据沉积层有效信号激光数,得到激光烧蚀速率约为270nm/脉冲.