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钼酸铵动态焙解还原过程中有关影响因素的探讨
钼酸铵动态焙解还原过程中有关影响因素的探讨
来源 :钨钼材料 | 被引量 : 0次 | 上传用户:yuncat
【摘 要】
:
从焙解还原温度和钼酸铵中的K含量入手,探讨了这两个因素对钼酸铵在五温区回转管式炉内动态焙解还过程的影响。试验表明,焙解还原温度控制在300-480℃之内,钼酸铵中的K含量按制在0.02%左右时,钼
【作 者】
:
朱瑞
【出 处】
:
钨钼材料
【发表日期】
:
1994年2期
【关键词】
:
钼酸铵
焙解还原
温度
K含量
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从焙解还原温度和钼酸铵中的K含量入手,探讨了这两个因素对钼酸铵在五温区回转管式炉内动态焙解还过程的影响。试验表明,焙解还原温度控制在300-480℃之内,钼酸铵中的K含量按制在0.02%左右时,钼酸铵焙解还原的效果最好。
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