热红外低比辐射、高漫反射比表面

• 作 者: 徐则川 刘兴阶
• 机 构: 固体电子学系
• 出 处: 华中理工大学学报
• 发表日期: 1997年4期
• 关键词: 低比辐射率 高漫反射比 红外辐射 电磁波 surface thermal IR : low emissivity high diffuse reflec
• 基金项目: 国家自然科学基金资助

在金属和非金属基体上，制备出了热红外低比辐射率以及射率和漫反射率都很低的高温反射比表面。对黄铜基体，Ｔ＝３７３Ｋ，λ≥８μｍ的法向积分比辐射率ε ｎ＝０．１３，Ｔ＝４１３Ｋ，λ＝８－２５μｍ的积分镜反射率Ｒｍ＝０．１５，积分漫反射率ＲＤ＝０．１６；对Ｋ９玻璃基体，Ｔ＝３７３Ｋ，λ≥８μｍ的εｎ＝０．１５，Ｔ＝４１３Ｋ，λ＝８－２５μｍ的Ｒｍ＝０．２１，ＲＤ＝０．１４，对于以Ｋ９玻璃为基体的同种表面