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以TbDyFe-FeNi多层膜／光纤复合结构为研究对象，采用ANSYS软件对多层膜厚度及外加磁场对光纤中传输光波的磁致相位位移大小的影响规律进行了研究。ANSYS计算结果发现，磁致相位位移大小随着薄膜厚度增加而增大；由于TbDyFe-FeNi多层膜的磁致伸缩性能，磁致相位位移值随磁场强度变化关系出现良好的线性关系。搭建M-Z干涉仪，实验论证TbDyFe-FeNi多层膜／光纤复合结构的磁探测性能，进一步证实了ANSYS模拟计算结果。